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J-GLOBAL ID：200903061362308822

光導波路形成方法、光導波路形成装置、光回路基板、及び電子機器

Inventor： 原田 篤
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (3)： 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003119307
Publication number (International publication number)：2004325706
Application date： Apr. 24, 2003
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

【課題】樹脂基板の所望の位置に光導波路を形成することができる方法を提供する。【解決手段】樹脂材料を含む基体150における第1の領域162に第1の分布を有するエネルギーを与えるとともに、第1の領域162に含まれる第2の領域164に第2の分布を有するエネルギーを与え、第2の領域164の少なくとも一部において基体150の屈折率を変化させることにより光導波路160を形成する光導波路形成方法。第1の領域に第1の波長を有する光を照射することによりエネルギーを与え、第2の領域に第1の波長より短い第2の波長を有する光を照射することによりエネルギーを与えるのが望ましい。

Claim (excerpt)：

外部から所定のエネルギーを受けることにより屈折率が変化する樹脂材料を含む基体に光導波路を形成する光導波路形成方法であって、前記基体における第1の領域に第1の分布を有するエネルギーを与えるとともに、前記第1の領域に含まれる第2の領域に第2の分布を有するエネルギーを与え、前記第2の領域の少なくとも一部における前記基体の屈折率を変化させることにより前記光導波路を形成することを特徴とする光導波路形成方法。

IPC (2)：

G02B6/13 ,  G02B6/122

FI (2)：

G02B6/12 M ,  G02B6/12 A

F-Term (4)：

2H047KA03 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05