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J-GLOBAL ID：200903061393396320

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 植田 裕治 ,  植木 裕美 ,  竹山 尚幹 ,  楠本 武宏
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993005793
Publication number (International publication number)：1993341531
Application date： Jan. 18, 1993
Publication date： Dec. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】 解像度、プロファイル及び感度等の諸性能に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 一般式(I)【化1】(式中、R1 〜R9 は各々水素もしくはハロゲン原子、アルキルもしくはアルケニル基又は-OH基等を表わす。但し、R1 〜R9 の中少なくとも1つは-OH基であり、且つ該-OH基に対してo又はp位に少なくとも2つの水素原子を有する。)で示される化合物とアルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤及び酸発生剤を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(I)【化1】(式中、R1 〜R9 は各々独立して水素もしくはハロゲン原子、置換されていてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル又はアルケニル基、-OH基或いは置換されていてもよいアルキルカルボニル基を表わす。但し、R1 〜R9 の中少なくとも1つは-OH基であり、且つ、該-OH基に対してo-又はp-位に少なくとも2つの水素原子を有する。)で示される化合物を含むフェノール類とアルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤及び酸発生剤を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027