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J-GLOBAL ID:200903061400678566

三次元コア導波路を有する石英系ガラス導波路の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 絹谷 信雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000032790
Publication number (International publication number):2001215352
Application date: Feb. 04, 2000
Publication date: Aug. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 コア導波路の位置関係が極めて高精度な三次元コア導波路を有する石英系ガラス導波路の製造方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、石英ガラス基板40上に多孔質ガラス層を形成することが無いので1300°C以上の温度で熱処理を行う必要が無い。このため、石英ガラス基板40の熱変形が生じることがなくなる。また、第1コア導波路43の上に金属膜50を付けたまま第1クラッド層用膜44で覆い、CMP法により第1クラッド層用膜44を除去、平坦化して第1クラッド層51を形成した後で第1コア導波路43上の金属膜50をエッチングにより除去するので、第1コア導波路43にダメージを与えることがない。従ってコア導波路をその相対位置関係が所望の値に対して極めて高精度で形成することができる。
Claim (excerpt):
石英ガラス基板上に、石英ガラスよりも屈折率の高いコアガラス膜を形成し、該コアガラス膜上にマスク状の金属膜を形成し、フォトリソグラフィ及び反応性イオンエッチングにより金属膜付き第1コア導波路を形成し、該金属膜付き第1コア導波路及び上記石英ガラス基板上に第1クラッド層用膜を形成し、CMP法により第1コア導波路と上記金属膜との接続面より上側の第1クラッド層用膜を除去、平坦化して第1クラッド層を形成した後、エッチングにより金属膜を除去し、第1コア導波路及び第1クラッド層の上に第2クラッド層を形成し、第2クラッド層の上に石英ガラスよりも屈折率の高いコアガラス膜を形成し、フォトリソグラフィ及び反応性イオンエッチングにより第2コア導波路を形成し、第2コア導波路及び第2クラッド層を第3クラッド層で覆うことを特徴とする三次元コア導波路を有する石英系ガラス導波路の製造方法。
IPC (2):
G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (2):
G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
F-Term (8):
2H047KA03 ,  2H047KB08 ,  2H047PA03 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA04 ,  2H047TA05 ,  2H047TA44

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