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J-GLOBAL ID：200903061421876350

押し出し成形高分子物品のプラズマ処理方法及び装置

Inventor：
中東 孝浩

About 中東 孝浩


Applicant, Patent owner：
日新電機株式会社

About 日新電機株式会社


Agent (1)： 谷川 昌夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997213068
Publication number (International publication number)：1999049879
Application date： Aug. 07, 1997
Publication date： Feb. 23, 1999
Summary：
【要約】【課題】 押し出し成形された高分子材料からなる物品の表面を清浄に保った状態でその表面にプラズマ処理を施すことができる押し出し成形高分子物品のプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 押し出し成形装置4の押し出し口41から真空容器1内に高分子材料からなる物品S2を押し出し成形する。一方、真空容器1内には処理用ガス供給部3から処理用ガスを導入し、また誘導コイル電極2に高周波電源22からマッチングボックス21を介して電力供給して処理用ガスをプラズマ化する。物品S2は送りローラ51a、51b及び送りガイド52aにより順次真空容器1内の処理位置に送り、この間物品S2のローラ51a、51b間に配置された部分をプラズマに曝して所定の処理を行う。このようにして、押し出し成形物品S2に順次プラズマ処理を施す。
Claim (excerpt)：
高分子材料を押し出し成形して高分子物品を得るにあたり、該物品の押し出し成形された部分から順に、大気に曝すことなく、処理用ガスに電力供給して得られたプラズマのもとでプラズマ処理を施すことを特徴とする押し出し成形高分子物品のプラズマ処理方法。
IPC (4)：
C08J 7/00 306 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/54
FI (4)：
C08J 7/00 306 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/54
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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