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J-GLOBAL ID：200903061513484733

CVD装置及びチャンバ内のクリーニングの方法

Inventor： 藍谷 輝一 ,  山本 孝章
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995309032
Publication number (International publication number)：1997143742
Application date： Nov. 28, 1995
Publication date： Jun. 03, 1997
Summary：

【要約】【課題】 クリーニングの終点を正確に検出することができる具体的な装置及び方法を提供する。【解決手段】 本発明のCVD装置は、内部に一対の電極を有し、電極間にプラズマを発生させて、内部に収容された基板上に化学気相堆積法により堆積を行うための、圧力調整可能なCVDプロセスチャンバと、電極に電気的に接続されて、CVDプロセスチャンバ内にプラズマを発生させるために電極間に電力を印加する電力供給手段と、CVDプロセスチャンバに接続され、クリーニング用ガスを供給するガス供給ラインと、第1の端部と第2の端部を有し、第1の端部がCVDプロセスチャンバに接続され、第2の端部が排気手段に接続され、第1の端部と第2の端部の間に可変バルブを有する排気ラインと、排気ラインの、可変バルブよりも第2の端部に近い側で、排気ラインに接続されて、排気ラインの圧力を検出する第1の圧力検出手段と、第1の圧力検出手段により検出された圧力の変化をモニタしてクリーニングの終点を検出する制御手段とを備えることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

圧力調整可能なCVDプロセスチャンバを有し、前記CVDプロセスチャンバ内部で基板上に堆積を行い、且つ、汚染された前記CVDプロセスチャンバの内部にプラズマを発生して前記CVDプロセスチャンバの内部をクリーニングする機能を備えるCVD装置であって、内部に一対の電極を有し、前記電極間にプラズマを発生させることができる、圧力調整可能なCVDプロセスチャンバと、前記電極に電気的に接続されて、前記CVDプロセスチャンバ内にプラズマを発生させるために前記電極間に電力を印加する電力供給手段と、前記CVDプロセスチャンバに接続され、クリーニング用ガスを供給するガス供給ラインと、第1の端部と第2の端部を有し、前記第1の端部が前記CVDプロセスチャンバに接続され、前記第2の端部が排気手段に接続され、前記第1の端部と前記第2の端部の間に前記CVDプロセスチャンバ内の圧力を調整する可変バルブを有する排気ラインと、前記排気ラインの、前記可変バルブよりも前記第2の端部に近い側で、前記排気ラインに接続されて、前記排気ラインの圧力を検出する第1の圧力検出手段と、前記第1の圧力検出手段により検出された圧力の変化をモニタしてクリーニングの終点を検出する制御手段とを備えることを特徴とするCVD装置。

IPC (6)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  C23G 5/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/31

FI (6)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 F ,  C23G 5/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/31 B