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J-GLOBAL ID:200903061556550209

位相差顕微鏡

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994053819
Publication number (International publication number):1995261089
Application date: Mar. 24, 1994
Publication date: Oct. 13, 1995
Summary:
【要約】【目的】 位相差顕微鏡を構成する光学系の偏心や偏向板の回転等を伴わずに、同一の観察条件の下でダークコントラストおよびブライトコントラストの2つの状態の位相差像を切り換え可能な位相差顕微鏡を提供する。【構成】 照明光学系1の瞳位置に配置したリングスリット2と標本面を介して共役な位置関係にある結像光学系3の瞳位置に位相リング4を配置し、位相リング4を、液晶等の電気的に位相差量が変化する素子の両面をほぼ透明な電極で挟持することにより構成する。この位相差顕微鏡により前記標本面に配置される標本5を位相差法により観察する際には、前記電極に付与する電気的な状態(印加電圧)を液晶コントローラ6により調整して位相リング4の位相差量を変化させ、ブライトコントラストおよびダークコントラストの2つの状態の位相差像を切り換えて観察し得るようにする。
Claim (excerpt):
照明光学系の瞳位置にリングスリットを配置し、このリングスリットと標本面を介して共役な位置関係にある結像光学系の瞳位置に位相リングを配置して、前記標本面に配置される標本を位相差法により観察するようにした位相差顕微鏡において、前記位相リングを、電気的に位相差量が変化する素子の両面をほぼ透明な電極で挟持することにより構成し、前記電極に付与する電気的な状態を調整することにより前記位相リングの位相差量を変化させて、ブライトコントラストおよびダークコントラストの2つの状態の位相差像を切り換えて観察し得るようにしたことを特徴とする位相差顕微鏡。
IPC (2):
G02B 21/00 ,  G02B 21/14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
  • 位相差顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-160099   Applicant:日立建機株式会社
  • 特開昭56-012615
  • 特公平3-081129
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