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J-GLOBAL ID：200903061638373925

低温焼結ゲル及びそれを用いた非線形光学ガラス

Inventor： 山根正之
Applicant, Patent owner： 新技術事業団
Agent (1)： 中村 尚
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991287047
Publication number (International publication number)：1994080428
Application date： Oct. 07, 1991
Publication date： Mar. 22, 1994
Summary：

【要約】【構成】 ゾル-ゲル法により低温焼結可能なゲルを得て、それを用いて非線形光学ガラスを得る。【構成】 低温焼結ゲルは、Na2O-B2O3-SiO2系においてCdS微結晶が分散されているゲルである。このゲルの製造法は、原料として、テトラメトキシシラン(Si(CH3)4)、ホウ酸トリエチル(B(OC2H5)3)、酢酸ナトリウム(CH3COONa)を用い、加水分解によりゾルを得て、該ゾルに酢酸カドミウム((CH3COO)2Cd)を含浸させ、乾燥してゲルを得た後、硫化水素に曝してCdS微結晶を含むゲルを作成することを特徴としている。このゲルを低温焼結(500〜590°C)すると、2〜5nmサイズのCdS微結晶を8wt%以下で含むNa2O-B2O3-SiO2系の非線形光学ガラスが得られる。10-6〜10-7esuオーダーの非線形感受率を持ち、高速応答が可能である。

Claim (excerpt)：

Na2O-B2O3-SiO2系ゲルにおいて、CdS微結晶が分散されていることを特徴とする低温焼結ゲル。

IPC (3)：

C03B 8/02 ,  C03C 3/089 ,  G02F 1/35 505