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J-GLOBAL ID：200903061673412658

房状疎水基を有する高分子および押出成形助剤

Inventor：
鶴田 学

About 鶴田 学

, 
川畑 裕人

About 川畑 裕人

, 
三塚 雅彦

About 三塚 雅彦


Applicant, Patent owner：
三井化学株式会社

About 三井化学株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997111343
Publication number (International publication number)：1998298261
Application date： Apr. 28, 1997
Publication date： Nov. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】 セメント系材料用押出成形助剤として有用な新規な高分子を得る。【解決手段】 ポリアルキレングリコール(A)にジイソシアナート(B)と房状疎水基を有するジオール(D)を反応させて得られる房状疎水基を有する高分子。
Claim (excerpt)：
化学式1(化1)【化1】で表される繰り返し単位(1)と、化学式2(化2)【化2】で表される繰り返し単位(2)からなる高分子であり、繰り返し単位(1)のモル比率が0.5以上0.999以下であり、繰り返し単位(2)のモル比率が0.001以上0.5以下であり、AはHO-A-OHが両末端に水酸基を有しかつ数平均分子量が400〜100,000の水溶性ポリアルキレングリコール(化合物A)である2価基であり、BはOCN-B-NCOが全炭素数が3〜18の鎖状脂肪族ジイソシアナート類よりなる群から選ばれたジイソシアナート化合物(化合物B)である2価基であり、DはHO-D-OHが化学式3(化3)【化3】で表される房状疎水性ジオール(化合物D)である2価基であり、aおよびa’は(a+a’)=0〜100の関係を満たす0以上の実数であり、bおよびb’は(b+b’)=1.5〜6.0の関係を満たす0以上の実数であり、cは1〜10の整数であり、dは1〜5の整数であり、X及びX’は各々独立に水素乃至メチル基であり、Yは化学式4(化4)【化4】で表される疎水基であり、Rは炭素数が8〜21のアルキル基、フェニル基、アラルキル基及びアルキル置換フェニル基よりなる群から選ばれた置換基であり、mは1〜20の整数であり、繰り返し単位(1)と繰り返し単位(2)からなる化合物の重量平均分子量が1万から1、000万の範囲にある房状疎水基を有する高分子。
IPC (7)：
C08G 18/48 ,  C04B 28/02 ,  C08L 75/08 ,  C04B 16:06 ,  C04B 24:28 ,  C04B103:44 ,  C04B111:20
FI (3)：
C08G 18/48 ,  C04B 28/02 ,  C08L 75/08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 押出成形セメント製品用添加剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-123078   Applicant：三洋化成工業株式会社
  • 吸水性材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-099276   Applicant：第一工業製薬株式会社
  • 特開昭56-043323

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