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J-GLOBAL ID:200903061720775446
走査型露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994215654
Publication number (International publication number):1996083744
Application date: Sep. 09, 1994
Publication date: Mar. 26, 1996
Summary:
【要約】【目的】 簡単な機構で且つ高い応答速度で走査方向に対する倍率及びディストーションの調整を行うことができる走査型露光装置を提供する。【構成】 照明光学系1によりマスク3を照明し、マスク3の像を等倍で且つ正立像を投影する投影光学系5、及び平行平面板8を介してプレート10上に投影する。プレート10上の回路パターンのX方向に対する伸縮率をアライメント光学系19Aにより測定し、この測定結果に応じて、キャリッジ13を介してマスク3及びプレート10を投影光学系5に対してX方向に走査する際に、平行平面板8の回転角を制御して露光視野11を移動させる。
Claim (excerpt):
露光用の照明光で転写用のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して感光性の基板上に投影した状態で、前記マスクを第1の方向に走査するのと同期して前記基板を前記第1の方向に対応する第2の方向に走査することにより、前記マスクのパターンを逐次前記基板上に露光する走査型露光装置において、前記投影光学系による前記基板上での前記マスクのパターンの露光視野を前記第2の方向に所定範囲内で連続的に移動させる光学部材を備えたことを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 514 C
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