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J-GLOBAL ID：200903061764975353

薄膜製造装置および薄膜製造方法

Inventor： 名田 直司 ,  松村 英樹
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社 ,  北陸先端科学技術大学院大学長
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000258336
Publication number (International publication number)：2002069644
Application date： Aug. 29, 2000
Publication date： Mar. 08, 2002
Summary：

【要約】【課題】 プラズマによる損傷を受けることなく、テープ(例えば蒸着テープ)表面に保護膜を均一な膜厚で形成する装置および方法を提供する。【解決手段】 処理室11と、この処理室11内に原料ガスを供給するガス供給部17と、処理室11内の成膜領域Aにテープ31を供給するテープ送り機構21と、ガス供給部17とテープ送り機構21より供給されるテープ31の成膜領域Aとの間に配置した触媒体18とを備えたものである。

Claim (excerpt)：

処理室と、前記処理室内に原料ガスを供給するガス供給部と、前記処理室内の成膜領域にテープを供給するテープ送り機構と、前記テープ送り機構より供給されるテープの成膜領域と前記ガス供給部との間に配置した触媒体と、前記触媒体を加熱する電力を供給する電源とを備えたことを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (3)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/54 ,  G11B 5/85

FI (3)：

C23C 16/44 A ,  C23C 16/54 ,  G11B 5/85 Z

F-Term (21)：

4K030AA06 ,  4K030AA10 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030BA29 ,  4K030BA37 ,  4K030BA38 ,  4K030BA40 ,  4K030BA42 ,  4K030BA44 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA14 ,  4K030LA19 ,  5D112AA22 ,  5D112AA24 ,  5D112FA09