投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：曾我道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993075586
Publication number (International publication number)：1994291013
Application date： Apr. 01, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】投影露光装置の投影倍率を、簡易的にかつ高精度に維持する。【構成】マスク2の投影露光領域内に複数の光透過型の投影倍率計測用マークを設けると共に、マスク2やウェハ5の位置決め時等の基準となる基準マーク6上に光反射型の投影倍率計測用マーク9を設け、かつマスク2の上方に投影倍率計測用光学顕微鏡8を設け、マスク2上の投影倍率計測用マーク7と、ウェハステージ4上の投影倍率計測マーク9を、光学系3を介して見ることができ、その画像を信号処理し、投影倍率計測マーク7と投影倍率計測マーク9との座標のずれ量を算出するようにし、そのずれ量に基づいて光学系3の投影倍率を常に設定された投影倍率に近い倍率に維持する。

Claim (excerpt)：

光源からの光によってマスク上の投影倍率計測用パターンを投影倍率が制御可能な光学系を介して倍率変換してウェハまたは座標計測用基準マーク上に投影露光することにより投影倍率を計測するようにした投影露光装置において、上記マスクの投影露光領域内に光透過型の投影倍率計測用マークを設けると共に、上記基準マーク上に光反射型の投影倍率計測用マークを設け、かつ上記マスクの上方に、上記マスク上の投影倍率計測用マークと上記光学系を介した上記基準マーク上の投影倍率計測マークの投影画像とを信号処理してそれら計測マークの座標のずれ量から投影倍率のずれ量を算出する演算系を有する投影倍率計測用光学顕微鏡を設け、上記投影倍率の設定倍率に対する誤差に基づいて上記光学系の投影倍率を変更補正する構成としたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521 , G03F 7/207

FI (2)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 301 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭56-082686
特開昭58-097583

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