Pat
J-GLOBAL ID:200903061816099930
多孔質球状シリカ及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005265269
Publication number (International publication number):2007076941
Application date: Sep. 13, 2005
Publication date: Mar. 29, 2007
Summary:
【課題】液体クロマトグラフィー用担体、化粧品用フィラー、触媒、酵素、微生物等を固定化するための固定化担体、吸着剤等として高性能となる平均細孔径、細孔容積、細孔分布等を有する多孔質球状シリカを提供する。【解決手段】水銀ポロシメーターで測定した最頻細孔径が45〜70オングストローム、平均細孔径が50〜100オングストローム、最頻細孔径の±10%の範囲に存在する細孔の容積が0.40ml/g以上であることを特徴とする多孔質球状シリカを用いる。当該多孔質状シリカはBET比表面積が400m2/g以上、細孔容積が0.9ml/g以下である多孔質球状シリカ前駆体を600°C以上の温度で焼成することによって製造する。【選択図】なし。
Claim (excerpt):
水銀ポロシメーターで測定した最頻細孔径が45〜70オングストローム、平均細孔径が50〜100オングストローム、最頻細孔径の±10%の範囲に存在する細孔の容積が0.40ml/g以上であることを特徴とする多孔質球状シリカ。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (21):
4G072AA25
, 4G072BB07
, 4G072BB15
, 4G072GG01
, 4G072HH30
, 4G072KK01
, 4G072KK03
, 4G072LL11
, 4G072MM01
, 4G072MM02
, 4G072MM31
, 4G072MM36
, 4G072RR05
, 4G072RR12
, 4G072TT06
, 4G072TT08
, 4G072TT09
, 4G072UU07
, 4G072UU11
, 4G072UU13
, 4G072UU17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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特開昭49-017806号公報(請求項2)
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シリカを実質的主成分とする多孔質球状粒子を製造する方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-345688
Applicant:昭和電工株式会社
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多孔質球状シリカ粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-191903
Applicant:昭和電工株式会社
-
特公平07-055816号公報(請求項1)
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液体クロマトグラフィー用充填剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-398398
Applicant:三菱化学株式会社
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