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J-GLOBAL ID:200903061847507440

排ガスの浄化処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 廣江 武典 ,  廣江 武典
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000221677
Publication number (International publication number):2002035551
Application date: Jul. 24, 2000
Publication date: Feb. 05, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】焼却炉から排出される排ガス中の特にはダイオキシンやコプラナーPCBなどに代表される環境汚染物質等を、光触媒の光触媒作用によって酸化還元分解し、大気中に放出できる程度にまで浄化処理でき、且つ既設の大型焼却炉にも装着できる排ガスの浄化処理装置の提供。【解決手段】排ガス供給路に連結部材10を介装して連続接続し内部に濾過材25を充填した矩形のフィルター槽20と、該フィルター槽20に耐熱性部材21を介してまたは介さないで着脱自在に連続接続し内部に光触媒粒子を充填した光触媒槽30と、該光触媒槽30に耐熱性部材41を介してまたは介さないで連続接続した排気用部材40とを具備しており、前記光触媒槽20には紫外線透過性を有する筒状で当該光触媒槽20の内部を貫通する複数のケーシング33と、各ケーシング30内に装着され前記光触媒粒子の励起光を放射する光源とを有しているところに構成的特徴がある。
Claim (excerpt):
排ガス供給路に連結部材を介装して連続接続し内部に濾過材を充填した矩形のフィルター槽と、該フィルター槽に耐熱性部材を介してまたは介さないで着脱自在に連続接続し内部に光触媒粒子を充填した光触媒槽と、該光触媒槽に耐熱性部材を介してまたは介さないで連続接続した排気用部材とを具備する排ガスの浄化処理装置であって、前記光触媒槽は、紫外線透過性を有する筒状で当該光触媒槽の内部を貫通する複数のケーシングと、各ケーシング内に装着され前記光触媒粒子の励起光を放射する光源とを具備していることを特徴とする排ガスの浄化処理装置。
IPC (4):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02 ,  F23J 15/00
FI (4):
B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 ZAB J ,  B01D 53/36 G ,  F23J 15/00 H
F-Term (65):
3K070DA05 ,  3K070DA26 ,  3K070DA32 ,  3K070DA83 ,  4D048AA11 ,  4D048AA21 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA10Y ,  4D048BA13X ,  4D048BA16Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA36Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA45Y ,  4D048BB01 ,  4D048BB08 ,  4D048CC04 ,  4D048CC32 ,  4D048CC36 ,  4D048CC38 ,  4D048CC62 ,  4D048CC63 ,  4D048CD05 ,  4D048DA01 ,  4D048DA20 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA08A ,  4G069BA13A ,  4G069BA14A ,  4G069BA38 ,  4G069BA48A ,  4G069BB02A ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC35A ,  4G069BC66A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA19 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02Y ,  4G069EA09 ,  4G069EA10 ,  4G069EC22X ,  4G069EE07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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