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J-GLOBAL ID：200903061885634014

近紫外-可視域イメージング用ポジチブフォトレジスト系

Inventor： ロバート・デイビツド・アレン ,  ウイリアム・ロス・ブランズボウルド ,  バートン・ジエシー・カーペンター ,  ウイリアム・デイーナン・ヒンズバーグ ,  ジヨゼフ・ラトーレ ,  マイクル・ジヨージ・マクマスター ,  メルビン・ウオレン・モントゴメリー ,  ウエイン・マーテイン・モロー ,  ローガン・ロイド・シンプソン ,  ロバート・ジエイムズ・トウエイグ ,  グレゴリー・マイクル・ウオールラフ
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992207846
Publication number (International publication number)：1993249680
Application date： Aug. 04, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ポジチブフォトレジストとそれを用いるフォトリソグラフィー法に関する。【構成】 このフォトレジストは、ポリマー性の成分として実質的に水および塩基に不溶性の、光に不安定な重合体と強酸を生成することのできる光酸発生剤を含んでいる。この光酸発生剤はN-ヒドロキシアミド、またはN-ヒドロキシイミドから導かれたスルホネートエステルである。このフォトレジスト組成物は適当な光増感剤をも含むものである。

Claim (excerpt)：

a.(1) 実質的に水および塩基に不溶性であって、効率的な酸分解をうけてもとの重合体よりも高い極性と溶解性とを有する生成物を生ずるくり返しの懸垂基を有する光に不安定な重合体;(2) N-ヒドロキシアミドおよびN-ヒドロキシイミドから誘導されるスルホネートエステルからなる群より選ばれる、強酸を生成することのできる酸発生剤;および(3) 光増感剤;から構成されるフォトレジスト組成物を被着させ;b. 活性放射線に対してこのフォトレジスト組成物の一部を露光し;c. 水系のアルカリ性媒体によりフォトレジストを現像して露光されたフォトレジスト組成物をとり除くことからなるフォトリソグラフィーの方法。

IPC (3)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭60-260947
  
• 特開昭52-030420
  
• 特開昭49-007254
  
• 特開平3-206458
  
• 特開昭62-212646