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J-GLOBAL ID:200903061890159120

木目導管溝エンボス版の作成方法および木目導管断面パターンの変形装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志村 浩
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993325937
Publication number (International publication number):1995148844
Application date: Nov. 30, 1993
Publication date: Jun. 13, 1995
Summary:
【要約】【目的】 自然の木目導管溝の深さの情報についても忠実に再現することができる木目導管溝エンボス版の作成方法およびこの方法の実施に利用できる木目導管断面パターンの変形装置を提供する。【構成】 天然木を用いて入力した木目導管断面パターンを変形し、一端が50μm程度、他端が200μm程度の幅の台形状のパターンを得る。このパターンをもったレジスト膜50を用いて、版材40をエッチングすると、サイドエッチングの影響を受け、高低分布をもった凸部41が形成される。この凸部41を塩化ビニールシートにエンボス転写して形成される疑似導管溝は、天然木に似た深さ分布をもつ。
Claim (excerpt):
木目導管溝の凹凸構造を再現したエンボス版を作成する方法であって、長手方向の向きがほぼ一致する多数の細長い閉領域から構成される木目導管断面パターンを用意する段階と、前記長手方向に沿った第1の方向と、これと反対の第2の方向とを定義し、前記各閉領域について、前記第1の方向を向いた第1の端部の幅が前記第2の方向を向いた第2の端部の幅よりも広くなるように、かつ、前記両端部の間の中間部分の幅がなだらかに変化するように、前記木目導管断面パターンを変形する段階と、前記変形した木目導管断面パターンを原版フィルム上に形成する段階と、エンボス版の材料となる版材の表面にレジスト膜を形成し、このレジスト膜を前記原版フィルムを通して露光し、これを現像することによって、前記レジスト膜のうち前記変形した木目導管断面パターンの閉領域に対応する部分のみを残す段階と、部分的にレジスト膜に覆われた前記版材の表面に対して、サイドエッチングをともなうエッチング処理を施す段階と、前記レジスト膜を除去する段階と、を有することを特徴とする木目導管溝エンボス版の作成方法。

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