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J-GLOBAL ID：200903061891208680
パターン形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉村 次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996352560
Publication number (International publication number)：1998170960
Application date： Dec. 16, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：
【要約】【課題】 アクティブマトリクス型の液晶表示装置におけるゲートライン等を形成する場合、エッチング液が経時的に劣化しても、ゲートライン等の幅方向両端部の傾斜をなだらかにすることができるようにする。【解決手段】 ガラス基板21上にゲートライン等形成用膜を設け、このゲートライン等形成用膜上にレジストパターン23を設け、このレジストパターン23をマスクとしてウエットエッチング、洗浄、乾燥を3回繰り返すことにより、下面側から上面側に向かうに従って漸次幅狭となったゲートライン25等を形成する。したがって、エッチング液が経時的に劣化しても、ゲートライン25等の幅方向両端部25aの傾斜をなだらかにすることができる。
Claim (excerpt)：
基板上にパターン形成用膜を設け、該パターン形成用膜上にレジストパターンを設け、該レジストパターンをマスクとしてウエットエッチング、洗浄、乾燥を複数回繰り返すことにより、下面側から上面側に向かうに従って漸次幅狭となったパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 338
, H05K 3/06
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 338
, H05K 3/06 A
