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J-GLOBAL ID：200903061911841015

ゼオライト膜及びその製造方法

Inventor： 佐野 庸治 ,  河村 光隆 ,  水上 富士夫 ,  高谷 晴生 ,  毛利 隆 ,  戸井田 良晴 ,  稲岡 亘 ,  渡辺 正実 ,  栗林 宗孝
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  社団法人日本航空宇宙工業会 ,  東ソー株式会社 ,  石川島播磨重工業株式会社
Agent (2)： 絹谷 信雄 (外1名) ,  絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991120001
Publication number (International publication number)：1994127937
Application date： May. 24, 1991
Publication date： May. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】 多孔質基体等を用いることなくゼオライト膜を簡単に形成することを可能とする。【構成】 Al2 O3 及びSiO2 を含み、H2 OとSiO2 とのモル比が50以上の水和ゲルを、オートクレーブを用いて無撹拌下でかつ温度 100°C以上、 200°C未満で水熱合成することにより、一方の面と他方の面とのSiO2 /Al2 O3 比が異なるゼオライト単独の自立したゼオライト膜を得ることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

一方の面と他方の面とのSiO2 /Al2 O3 比が異なることを特徴とするゼオライト膜。

IPC (4)：

C01B 33/34 ,  B01D 71/02 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/28