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J-GLOBAL ID：200903061915032561

レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物ならびにパターン製造方法

Inventor：
百瀬 陽

About 百瀬 陽

, 
上田 昭史

About 上田 昭史

, 
藤原 匡之

About 藤原 匡之


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004002389
Publication number (International publication number)：2004231950
Application date： Jan. 07, 2004
Publication date： Aug. 19, 2004
Summary：
【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等に用いた場合に、レジストの高い感度および/または解像度が損なわれることなく、レジスト溶剤への溶解性、レジスト溶液中でのマイクロゲル生成の抑制、ドライエッチング処理後のレジスト膜表面荒れの低減、熱処理によるレジストパターンの直立性、ラインエッジラフネスに優れたレジスト用共重合体を提供する。【解決手段】 脂環式骨格を有する単量体単位またはラクトン骨格を有する単量体単位を含むレジスト用共重合体であって、該レジスト用共重合体が、アクリル単量体単位を20モル%以上68モル%以下含むことを特徴とするレジスト用共重合体。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
脂環式骨格を有する単量体単位を含むレジスト用共重合体であって、該レジスト用共重合体が、アクリル単量体単位を20モル%以上68モル%以下含むことを特徴とするレジスト用共重合体。
IPC (4)：
C08F220/10 ,  C08F2/00 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (4)：
C08F220/10 ,  C08F2/00 A ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
F-Term (55)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J011AA05 ,  4J011AB02 ,  4J011BA07 ,  4J011BB01 ,  4J011BB02 ,  4J011BB12 ,  4J011BB15 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA16P ,  4J100BA16R ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA40P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC28P ,  4J100BC52P ,  4J100BC53R ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA35 ,  4J100FA39 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (15)
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