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J-GLOBAL ID：200903061918923670

光電子測定方法及び光電子測定システム

Inventor： 二瓶 好正 ,  尾張 真則 ,  坂本 哲夫 ,  石井 秀司 ,  大森 真二 ,  白木 将 ,  成松 啓博
Applicant, Patent owner： 東京大学長
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000153250
Publication number (International publication number)：2001330571
Application date： May. 24, 2000
Publication date： Nov. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】測定時間を短く、かつ、電子散乱の異方性による原子像の歪みに対する補正効果を大きくすることにより原子位置の誤差を小さくすることができ、かつ、特別な施設を使用する必要がない、光電子測定方法及びシステムを提供する。【解決手段】X線源2により2つのX線X1,X2を試料に同時照射し、この試料から放出された2つの光電子E1,E2の光電子スペクトルを、エネルギー分析器3によりこの照射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出する走査を1回実行して光電子強度分布パターンを取得する。この光電子強度分布パターンに基づいて2つのホログラム像を取得し、これらのホログラム像の差をとって差分ホログラム像を取得し、この差分ホログラム像をフーリエ変換して原子像を取得する。

Claim (excerpt)：

波長の異なる2つのX線を試料の照射スポットに同時照射して、これら2つのX線により夫々励起されたエネルギーの異なる2つの光電子をこの照射スポットから夫々放出させて、これら2つの光電子の光電子スペクトルをこの照射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出する走査を実行して、光電子スペクトル検出値を取得し、この光電子スペクトル検出値に基づいて、前記2つの光電子に対応した2つのホログラム像を夫々演算し、これら2つのホログラム像の差をとって差分ホログラム像を演算し、この差分ホログラム像をフーリエ変換して原子像を演算する、ことを特徴とする、光電子測定方法。

F-Term (20)：

2G001AA01 ,  2G001AA10 ,  2G001BA08 ,  2G001DA01 ,  2G001DA06 ,  2G001FA11 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA13 ,  2G001HA01 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001JA11 ,  2G001JA13 ,  2G001KA01 ,  2G001KA08 ,  2G001LA06 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001RA03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 試料表面分析法及びその分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-253952   Applicant：株式会社日立製作所