Pat
J-GLOBAL ID:200903061929364966

酸化剤パージ流からの安息香酸の除去方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  出野 知 ,  蛯谷 厚志
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2008526054
Publication number (International publication number):2009504647
Application date: Jul. 27, 2006
Publication date: Feb. 05, 2009
Summary:
カルボン酸、典型的にはテレフタル酸の合成において生成する母液からの不純物、特に安息香酸の除去に関する方法を開示する。
Claim (excerpt):
(a)主蒸発器ゾーンにおいて酸化剤パージ流を蒸発に供して、蒸気流及び超濃縮パージスラリーを生成せしめ; (b)固液分離ゾーンにおいて前記超濃縮パージスラリーを濾過して、濾過ケーク及び母液を形成し; (c)前記固液分離ゾーンにおいて前記濾過ケークを供給洗浄液で洗浄して、洗浄ケーク及び洗浄濾液を形成し;且つ場合によっては、前記固液分離ゾーンにおいて前記洗浄濾液を脱水して、脱水ケークを形成し; (d)場合によっては、蒸発器ゾーンにおいて前記母液及び場合によっては前記洗浄濾液を蒸発に供して、溶媒に富んだ蒸気と洗浄濾液残渣を形成し;そして (e)分離ゾーンにおいて前記溶媒に富んだ蒸気を蒸留に供して、溶媒に富んだ流れと安息香酸に富んだ流れを形成する ことを含んでなる方法。
IPC (4):
C07C 51/42 ,  C07C 63/26 ,  C07C 51/43 ,  C07C 51/44
FI (4):
C07C51/42 ,  C07C63/26 ,  C07C51/43 ,  C07C51/44
F-Term (11):
4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD15 ,  4H006BB17 ,  4H006BC50 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BD80 ,  4H006BD84 ,  4H006BJ50 ,  4H006BS30
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 米国特許第4,939,297号

Return to Previous Page