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J-GLOBAL ID：200903061943456393
粒度分布解析方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994295818
Publication number (International publication number)：1996136434
Application date： Nov. 05, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：
【要約】【目的】 大容量の記憶装置などを用いなくても、相対屈折率の影響を補正することができる粒度分布解析方法を提供すること。【構成】 分散した試料粒子に光を照射することによって生ずる回折光または散乱光の強度分布を複数のセンサ素子17aからなるディテクタ17で測定し、測定した強度分布のデータからフラウンホーファ回折またはミー散乱理論に基づいて前記試料粒子の粒度分布を求める粒度分布解析方法において、相対屈折率毎にセンサ素子17aによって得られる散乱光強度を補正し、これに基づいて前記散乱光強度を粒度分布に変換するようにした。
Claim (excerpt)：
分散した試料粒子に光を照射することによって生ずる回折光または散乱光の強度分布を複数のセンサ素子からなるディテクタで測定し、測定した強度分布のデータからフラウンホーファ回折またはミー散乱理論に基づいて前記試料粒子の粒度分布を求める粒度分布解析方法において、相対屈折率毎にセンサ素子によって得られる散乱光強度を補正し、これに基づいて前記散乱光強度を粒度分布に変換するようにしたことを特徴とする粒度分布解析方法。
Patent cited by the Patent：
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