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J-GLOBAL ID:200903061987800806

コポリマー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991346186
Publication number (International publication number):1994211940
Application date: Dec. 27, 1991
Publication date: Aug. 02, 1994
Summary:
【要約】【目的】 セメント添加剤として用いるコポリマーを提供する。【構成】 下記、【化1】[式中、Mは水素または疎水性ポリアルキレングリコールまたはポリシロキサンの残基であり、RはC2-6アルキレン基、R1はC1-20アルキル、C6-9シクロアルキルまたはフェニル基であり、x,yおよびzは1から100の数であり、mは1から100の数であり、nは10から100の数である。但し、i)x対(y+z)の比率は1:10から10:1(両端を含む)、ii)z:yの比率は5:1から100:1、およびiii)m+n=15-100である。]で示される型および数のモノマー単位を持つ遊離酸または塩形のランダムコポリマー。
Claim (excerpt):
下記、【化1】[式中、Mは水素または疎水性ポリアルキレングリコールまたはポリシロキサンの残基であり、RはC2-6アルキレン基、R1はC1-20アルキル、C6-9シクロアルキルまたはフェニル基であり、x,yおよびzは1から100の数であり、mは1から100の数であり、nは10から100の数である。但し、i)x対(y+z)の比率は1:10から10:1(両端を含む)、ii)z:yの比率は5:1から100:1、およびiii)m+n=15-100である。]で示される型および数のモノマー単位を持つ遊離酸または塩形のランダムコポリマー。
IPC (5):
C08F212/08 MJU ,  C08F222/06 MLT ,  C08F222/20 MMH ,  C08F299/02 MRS ,  C08F299/08 MRY
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平3-163109
  • 特開平4-103692

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