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J-GLOBAL ID：200903062001052455

組織切片培養用基盤

Inventor： 亀井 明仁 ,  杉原 宏和 ,  小林 康 ,  光亦 忠泰
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993321535
Publication number (International publication number)：1995170971
Application date： Dec. 21, 1993
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 組織切片の接着性が高く、組織切片を液相と気相の界面に容易におくことが可能な組織切片培養用基盤を得る。【構成】 石英ガラスに1μm厚のネガティブフォトセンシティブポリイミド(NPI)をスピンコートした絶縁基盤と、その上に設けられた厚さ10μm以上300μm以下のコラーゲンゲル層からなる。組織切片をより生体内の環境に近い状態で培養することができ、組織切片の基盤上への定着性に優れた組織培養用基盤となる。

Claim (excerpt)：

絶縁基盤とその上に設けられたコラーゲンゲル層からなる組織切片培養用基盤。

IPC (2)：

C12M 3/00 ,  C12M 1/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• コラーゲンコート細胞培養器具およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-062369   Applicant：住友ベークライト株式会社
• 特開平4-316479