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J-GLOBAL ID：200903062026538042
可動熱反射板付真空炉
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993238044
Publication number (International publication number)：1995091863
Application date： Sep. 24, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：
【要約】【目的】 処理品を加熱処理するための加熱処理部に所望の温度分布を得ることができる真空炉を提供することである。【構成】 第1制御手段によって第1加熱体の加熱量を制限して、断熱材によって包囲された加熱室の温度を定常状態にし、加熱室内に設置された可動熱反射板の上下方向移動量を移動量制御手段を用いて加熱処理部の上部で制御することによって、可動熱反射板による輻射熱を増減させ、加熱処理部の上下方向に所望の温度分布を得ることができる。さらに、加熱室の底面に設置された第2加熱体と、該第2加熱体の加熱量を制御するための第2制御手段とをさらに有する真空炉を用いて、第1加熱体の加熱量と第2加熱体の加熱量とを別々に制御することによって、加熱処理部の上下方向に所望の温度分布をさらに確実に得ることができる。
Claim (excerpt)：
被加熱物を加熱処理するための加熱処理部を有する、断熱材によって包囲された加熱室と、該加熱室内部の周方向全体に渡って上下方向に設置された第1加熱体と、該第1加熱体の加熱量を制御するための第1制御手段とを有する真空炉において、前記加熱室内に設置された、前記加熱処理部の上部で上下に移動可能な可動熱反射板と、前記可動熱反射板の上下移動量を制御するための移動量制御手段とを設けたことを特徴とする真空炉。
IPC (4)：
F27D 11/02
, F27B 17/00
, F27D 19/00
, G05D 23/19
