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J-GLOBAL ID：200903062049612304

排気装置

Inventor： 山崎 舜平 ,  田代 衛 ,  宮崎 稔
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Agent (1)： 鴨田 朝雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991169059
Publication number (International publication number)：1993074716
Application date： Jun. 14, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 粒状の反応生成物が生じる反応容器の排気系における反応生成物による故障を防止する。【構成】 比較的高真空に排気する手段と、比較的低真空に排気する手段とを、同一排気系に直列に接続して、排気系の切り換えをしないようにし、比較的高真空の排気手段としてターボ分子ポンプを利用する。

Claim (excerpt)：

反応性気体の反応により粉状の反応生成物が発生する反応室に使用する排気装置において反応室内を比較的高真空に排気する手段と、反応室内を比較的低真空に排気する手段とを同一排気系に直列に接続したことを特徴とする排気装置。

IPC (5)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/54 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/31 ,  F04D 19/04