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J-GLOBAL ID：200903062069665730

安定な遊離ラジカル存在下での1,3-ジエンの制御されたラジカル重合によるテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーの合成方法

Inventor： ブゥトヴァン,ベルナール ,  セルフ,マルタン ,  プラデル,ジャン-ローラン
Applicant, Patent owner： エルフ アトケム ソシエテ アノニム
Agent (1)： 越場 隆
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998500271
Publication number (International publication number)：1999511202
Application date： Jun. 03, 1997
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：

【要約】安定なニトロキシドラジカルの存在下に感熱性開始剤を用いて少なくとも一種類の1,3-ジエンをラジカル重合させるテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーの合成方法の改良と、新規生成物としてのテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーと、ジブロックまたはマルチブロック共重合体合成におけるその使用。

Claim (excerpt)：

分散媒体中で、過酸化水素水溶液、アゾジニトリル等の感熱性開始剤を用いて少なくとも一種の1,3-ジエンのラジカル重合を行う、制御されたラジカル重合によるテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーの合成方法において、 反応を安定な遊離ラジカルの存在下で行うことを特徴とする方法。

IPC (3)：

C08F 4/28 ,  C08F 2/38 ,  C08F 36/04

FI (3)：

C08F 4/28 ,  C08F 2/38 ,  C08F 36/04