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J-GLOBAL ID：200903062070994314

ポリヒドロキシスチレンの製造方法

Inventor： 渡辺 修 ,  山田 素行 ,  八木橋 不二夫 ,  高見沢 稔
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 滝田 清暉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991031788
Publication number (International publication number)：1993001115
Application date： Jan. 31, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 分子量分布が狭く、任意の分子量の高分子に制御することのできるポリヒドロキシスチレンの新規な製造方法を提供すること。【構成】【化5】で表されるテトラヒドロピラニルオキシスチレンモノマーをリビングアニオン重合した後、テトラヒドロピラニル基を脱離させることを特徴とするポリヒドロキシスチレンの製造方法。【効果】 超LSIの製造に必要な高解像度のレジスト材料として、或いはポリマーのブレンド材として有用なポリヒドロキシスチレンが得られる。

Claim (excerpt)：

下記構造式【化1】で表されるテトラヒドロピラニルオキシスチレンモノマーをリビングアニオン重合した後、テトラヒドロピラニル基を脱離させることを特徴とするポリヒドロキシスチレンの製造方法。

IPC (2)：

C08F 12/24 MJY ,  C08F 8/12 MGF