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J-GLOBAL ID：200903062079415287

欠陥検査装置及び欠陥検査方法

Inventor： 彦谷 道信 ,  上山 真司
Applicant, Patent owner： 株式会社東京精密
Agent (5)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  小林 龍 ,  下道 晶久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007268172
Publication number (International publication number)：2009097928
Application date： Oct. 15, 2007
Publication date： May. 07, 2009
Summary：

【課題】試料表面の撮像画像を検査して試料表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検出において疑似欠陥の発生を効果的に抑制する。【解決手段】試料2の表面に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検査装置1は、撮像部13により撮像された撮像画像上にて検出された欠陥候補のサイズが撮像部13の結像光学系の解像限界よりも小さく、かつ欠陥候補を示す欠陥候補画素の周囲の画素からこの欠陥候補画素までのグレイレベル値の空間的変化が結像光学系の解像力を超えているとき、この欠陥候補を疑似欠陥として判定する疑似欠陥判定部31を備える。【選択図】図7

Claim (excerpt)：

試料の表面に形成されたパターンを所定の撮像装置によって撮像して取得された撮像画像を所定の検査方法に従って検査することにより、前記試料の表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検査装置であって、 前記撮像画像上にて検出された欠陥候補のサイズが前記所定の撮像装置の結像光学系の解像限界よりも小さく、前記欠陥候補を示す欠陥候補画素の周囲の画素からこの欠陥候補画素までのグレイレベル値の空間的変化が前記結像光学系の解像力を超えているとき、この欠陥候補を疑似欠陥として判定する疑似欠陥判定部を備えることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (2)：

G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (2)：

G01N21/956 A ,  H01L21/66 J

F-Term (18)：

2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EB09 ,  2G051ED08 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 画像欠陥検査方法、画像欠陥検査装置及び外観検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-188209   Applicant：株式会社東京精密