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J-GLOBAL ID:200903062103438234
光学素子の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
古谷 史旺
, 森 俊秀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005332888
Publication number (International publication number):2007136822
Application date: Nov. 17, 2005
Publication date: Jun. 07, 2007
Summary:
【課題】 本発明は、光学特性の正確なポリマー多層膜を製造することを目的とする。【解決手段】 本発明の製造方法は、屈折率の異なるポリマー材料を積層し、n層(n≧2)からなるポリマー多層膜を形成する製造方法であって、次の工程を少なくとも備える。まず、m層(1≦m<n)の積層を完了した中間段階で、積層済みのポリマー多層膜について光学特性を測定する。この測定された光学特性に基づいて、ポリマー多層膜の最終的な特性誤差を軽減する方向に、これから形成するポリマー膜の厚さを調整する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
屈折率の異なるポリマー材料を積層し、n層(n≧2)からなるポリマー多層膜を形成する製造方法であって、
m層(1≦m<n)の積層を完了した中間段階で、積層済みの前記ポリマー多層膜について光学特性を測定する測定工程と、
測定された前記光学特性に基づいて、前記ポリマー多層膜の最終的な特性誤差を軽減する方向に、これから形成するポリマー膜の厚さを調整する設計調整工程と
を備えたことを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (3):
B29D 11/00
, G02B 5/28
, G02B 1/11
FI (3):
B29D11/00
, G02B5/28
, G02B1/10 A
F-Term (18):
2H048GA05
, 2H048GA12
, 2H048GA33
, 2H048GA60
, 2H048GA62
, 2K009AA05
, 2K009CC21
, 2K009CC38
, 2K009DD02
, 2K009DD09
, 2K009EE00
, 4F213AH73
, 4F213AP20
, 4F213AR12
, 4F213WA03
, 4F213WA12
, 4F213WA43
, 4F213WB01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
高分子光多層膜及び高分子光多層膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-206579
Applicant:超技術開発者集団株式会社
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