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J-GLOBAL ID：200903062114557251

ミクロパターンの形成方法

Inventor： 浅川 鋼児 ,  平岡 俊郎 ,  堀田 康之
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999280346
Publication number (International publication number)：2001100419
Application date： Sep. 30, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ブレンドポリマーの相分離を利用して、かなりの規則性をもったナノメーターからミクロンオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。【解決手段】 下地上に2種以上のポリマーを含有するポリマーブレンドからなるミクロパターン形成材料の薄膜を形成する工程と、薄膜中に核生成成長過程で固定化された相分離構造を形成する工程と、薄膜に高エネルギー線を照射して少なくとも1種のポリマーの主鎖を切断する工程と、主鎖が切断されたポリマーの相を選択的に除去する工程と、残存したポリマーの相をマスクとして下地を加工する工程とを有するミクロパターンの形成方法。

Claim (excerpt)：

下地上に、モノマーユニットのα位炭素に水素を有する少なくとも1種のポリマーとモノマーユニットのα位炭素にアルキル基またはハロゲンを有する少なくとも1種のポリマーとを含有するポリマーブレンドからなるミクロパターン形成材料の薄膜を形成する工程と、前記薄膜中に相分離構造を形成する工程と、前記薄膜に高エネルギー線を照射して少なくとも1種のポリマーの主鎖を切断する工程と、前記主鎖が切断されたポリマーの相を選択的に除去する工程と、残存したポリマーの相をマスクとして下地を加工する工程とを具備したことを特徴とするミクロパターンの形成方法。

IPC (2)：

G03F 7/039 501 ,  C08L101/14

FI (2)：

G03F 7/039 501 ,  C08L101/14

F-Term (54)：

2H025AA02 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC03 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025BE01 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BF03 ,  2H025BF05 ,  2H025BF09 ,  2H025BF12 ,  2H025BF14 ,  2H025BH04 ,  2H025BJ01 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC01 ,  2H025CC05 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025DA40 ,  2H025FA01 ,  2H025FA17 ,  2H025FA20 ,  2H025FA21 ,  4J002BB03X ,  4J002BB12W ,  4J002BB12X ,  4J002BB18W ,  4J002BC03X ,  4J002BC09W ,  4J002BG01W ,  4J002BG01X ,  4J002BG03X ,  4J002BG04X ,  4J002BG06W ,  4J002BG08W ,  4J002BG13W ,  4J002BQ00W ,  4J002BQ00X ,  4J002FD020 ,  4J002FD040 ,  4J002FD070 ,  4J002FD140 ,  4J002FD200 ,  4J002GH01 ,  4J002GP03 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA05