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J-GLOBAL ID：200903062143957986

偏光子の製造方法および製造装置

Inventor： 大沢 隆二
Applicant, Patent owner： 株式会社トーキン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994113867
Publication number (International publication number)：1995301710
Application date： Apr. 28, 1994
Publication date： Nov. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 薄膜よりなる偏光子の製作において、再現性、量産性の良好な製造方法および製造装置を提供する。【構成】 透明基板の上に物理蒸着によって金属層と誘電体層の積層膜の形成を行う際に、誘電体層と同一組成の下地層を設ける。また、誘電体層および誘電体層の各々の組成を特定のものとし、さらに、偏光子作製のために適切な引き延ばし方法および装置を示した。

Claim (excerpt)：

透明な基板上に物理蒸着法により金属層と誘電体層とを交互に積層して積層体を形成し、前記積層体に引き延ばし処理を施す偏光子の製造方法において、前記基板上に前記誘電体層と同一組成の下地層を形成した後、前記金属層および誘電体層を交互に積層することを特徴とする偏光子の製造方法。