Pat

J-GLOBAL ID：200903062144383924

成膜装置および成膜方法

Inventor： 宮川 展幸 ,  北村 啓明
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社
Agent (1)： 松本 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992225951
Publication number (International publication number)：1994065738
Application date： Aug. 25, 1992
Publication date： Mar. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 固体材料からのPVD法による成膜と、気体もしくは液体材料からのCVD法による成膜を連続して行え、異種材料の混合膜の形成に対し十分な適性があり、構成が複雑化せずに済ませられる成膜装置を提供する。 【構成】 この発明の成膜装置は、マグネット4とマイクロ波導入口6,15を有しプラズマ生起用第1ガスを導入できるプラズマ室5と、第2ガスを導入できる反応室2とが設けられていて、両室の間にバイアス電圧を印加できるターゲットTが配置されており、前記プラズマ室のプラズマが反応室に導入される構成になっている。

Claim (excerpt)：

マグネットとマイクロ波導入口を有しプラズマ生起用第1ガスを導入できるプラズマ室と、第2ガスを導入できる反応室とが設けられていて、両室の間にバイアス電圧を印加できるターゲットが配置されており、前記プラズマ室のプラズマが反応室に導入されるようになっている製膜装置。

IPC (2)：

C23C 14/35 ,  C23C 16/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平2-190467
  
• 特開昭63-277755
  
• 特開平1-298153
  
• 特公昭62-043335
  
• 特開平3-290926