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J-GLOBAL ID：200903062172318291

成膜装置

Inventor： 中村 孝夫 ,  飯山 道朝
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 越場 隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992351724
Publication number (International publication number)：1994009297
Application date： Dec. 08, 1992
Publication date： Jan. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 成膜中または成膜直後に酸化ガスを供給する必要がある薄膜の成膜に使用することができる成膜装置を提供する。【構成】 蒸発源の容器3と内部が連通した真空チャンバ2と、該真空チャンバ2内を高真空まで排気できる主排気系1と、該真空チャンバ2内で基板4を加熱しつつ保持することができる試料保持部5とを具備したMBE装置において、更に、該真空チャンバ2内で、成膜時の基板4の位置と蒸発源との間での気体の流通を低減できるような絞り手段21と、成膜時の基板4の位置と蒸発源との間を気密に遮断することができる開閉可能なゲートバルブ22と、該真空チャンバ2の基板4側の領域に気体を供給することができる給気系7と、該ゲートバルブを閉じた状態で該真空チャンバ2の基板4側の領域を高真空まで排気できる副排気系20とを具備し、前記主排気系1が、該ゲートバルブの蒸発源側に設けられている。

Claim (excerpt)：

蒸発源の容器と内部が連通した真空チャンバと、該真空チャンバ内を高真空まで排気できる主排気系と、該真空チャンバ内で基板を保持する基板ホルダと、基板を加熱する手段とを具備した成膜装置において、さらに、該真空チャンバ内で、成膜時の基板の位置と蒸発源との間での気体の流通を低減できるような絞り手段と、成膜時の基板の位置と蒸発源との間を気密に遮断することができる開閉可能なゲートバルブと、該真空チャンバの基板側の領域に気体を供給することができる給気系と、該ゲートバルブを閉じた状態で該真空チャンバの基板側の領域を高真空まで排気できる副排気系とを具備し、前記主排気系が、該ゲートバルブの蒸発源側に設けられていることを特徴とする成膜装置。

IPC (9)：

C30B 29/22 501 ,  C01G 1/00 ,  C23C 14/34 ,  C30B 23/08 ZAA ,  C30B 23/08 ,  C30B 25/06 ZAA ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01L 21/203 ,  H01L 39/24 ZAA