Pat

J-GLOBAL ID：200903062181952963

プラズマから静電チャックを保護する磁石を有するプラズマ反応装置

Inventor： ローバート エー. チャップマン
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994267394
Publication number (International publication number)：1995183285
Application date： Oct. 31, 1994
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ反応装置において、プラズマによるウエハ保持のための静電チャックおよびウエハ周縁部裏側の損失という問題を解決すること。【構成】 プラズマ反応装置において、ウエハの周縁近くにある石英側壁内に磁石を設けることにより、プラズマによる静電チャックおよびウエハ周縁裏側への攻撃による損失という問題を軽減することができた。

Claim (excerpt)：

半導体基板を処理するためののプラズマ反応装置において、前記反応装置内に置かれる前記基板を保持する装置であって、上記基板の周辺を、円周状のすきまをもって取り囲む側壁と、上記基板を保持するための静電チャックと、上記円周状のすきまの回りに設けた磁石からなる装置。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-232226
  
• プラズマ・ダメージ低減法およびプラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-094953   Applicant：日本電信電話株式会社
• 特開昭62-147733