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J-GLOBAL ID：200903062200748787
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995041587
Publication number (International publication number)：1996235541
Application date： Mar. 01, 1995
Publication date： Sep. 13, 1996
Summary：
【要約】【目的】本発明では、マスクパターン下層として上部ギャップ絶縁層の一部に兼用可能な電極膜浸入防止膜を用ることにより、リフトオフ時の電極膜剥離に起因する突起物の発生を抑制し、磁気抵抗層と上部シールド層との間の絶縁耐圧性を向上する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドとその製造方法を提供することを目的とする。【構成】磁気抵抗効果膜に縦方向バイアスを発生させる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗層が媒体からの情報信号を読み取る感知部のみに延びる構造を構築する際、上層がレジスト、下層が電極膜浸入防止膜から成るマスクパターンを用いて、電極膜形成部の磁気抵抗層を除去し、硬磁性バイアス膜及び電極膜を形成する。その後レジストのみを除去し、電極膜浸入防止膜を磁気抵抗層と上部シールド層との間の絶縁層の一部として用いる。
Claim (excerpt)：
下部シールド層と上部シールド層との間に、下部ギャップ絶縁層と磁気抵抗層とその端部に電気的に接続された電極膜を有する磁気抵抗センサと上部ギャップ絶縁層とが積層された磁気抵抗型薄膜磁気ヘッドにおいて、前記磁気抵抗層上に保護膜及び該保護膜の上部に電極膜浸入防止膜が形成されていることを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド。
IPC (2)：
FI (3)：
G11B 5/39
, H01L 43/08 U
, H01L 43/08 H
