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J-GLOBAL ID：200903062217465746

ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

Inventor： 大谷 充孝 ,  堤 憲太郎 ,  前田 一彦
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000149968
Publication number (International publication number)：2001330955
Application date： May. 22, 2000
Publication date： Nov. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化する基材樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】基材樹脂として、構成単位として式1で表される単位を含む共重合体を使用する。

Claim (excerpt)：

酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化する樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、該樹脂が式(1)、【化1】で表される単位を1モル%以上と他のビニル化合物に由来する単位99モル%以下とからなる含フッ素共重合体であることを特徴とする真空紫外領域のレーザー用ポジ型レジスト組成物。

IPC (10)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/46 ,  C08F216/14 ,  C08F218/04 ,  C08F220/10 ,  C08F226/02 ,  C08F232/04 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  H01L 21/027

FI (10)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/46 ,  C08F216/14 ,  C08F218/04 ,  C08F220/10 ,  C08F226/02 ,  C08F232/04 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (46)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BF11 ,  2H025BF29 ,  2H025FA17 ,  4J002BE041 ,  4J002BF011 ,  4J002BG031 ,  4J002BJ001 ,  4J002BK001 ,  4J002EB116 ,  4J002ES006 ,  4J002EU186 ,  4J002EU196 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J011RA03 ,  4J011RA10 ,  4J011RA11 ,  4J011SA78 ,  4J011SA79 ,  4J011SA83 ,  4J011SA84 ,  4J011SA87 ,  4J011UA02 ,  4J011UA04 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J100AE13Q ,  4J100AG10Q ,  4J100AL01Q ,  4J100AN04Q ,  4J100AR04P ,  4J100BA20Q ,  4J100BB07P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38