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J-GLOBAL ID：200903062239530444

可変方向を有する電界で材料を処理する方法および装置

Inventor： ウォルターズ、リチャード,イー. ,  キング,アラン,デイ. ,  ウォルターズ,ダーリン,シー.
Applicant, Patent owner： ウォルターズ、リチャード,イー. ,  キング,アラン,デイ. ,  ウォルターズ,ダーリン,シー.
Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1999502301
Publication number (International publication number)：2001500268
Application date： Jun. 10, 1997
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】この発明の目的は、電界と追加された処理物質により、膜を有する物質を処理する方法と装置に関する。複数の電極(121-128)が、処理すべき材料の周りに配置され、かつ、電極選択装置(110)の出力に接続される。電極選択装置の入力は、電気アジャイルパルス発生装置の出力に接続され、処理物質が膜を有する物質に添加させる。電気パルスが電極選択装置に印加され、予め決められコンピュウター制御によって、一連の電極よりいくつかの電極が選択され、その際、膜を有する物質は、追加された処理物質と、順次変化する方向の電界により処理される。

Claim (excerpt)：

1.電界と追加された処理物質により、材料を処理する方法であって、 複数の電極の列を処理すべき材料の周りに配置し、 電極を、電極選択装置の出力に接続し、 電極選択装置の入力を、電気パルサー装置の出力に接続し、 前記材料を、前記追加された処理物質に接触させ、 前記電極選択装置に電気パルスを印加する、 ことを特徴とする方法。

IPC (5)：

G01N 33/483 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/42 ,  C12N 13/00 ,  C12N 15/09

FI (5)：

G01N 33/483 E ,  C12M 1/00 A ,  C12M 1/42 ,  C12N 13/00 ,  C12N 15/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特表平3-502043
  
• 特開昭63-049071
  
• 特開昭60-251874