ガス分離装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西出眞吾 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999202545
Publication number (International publication number)：2001025629
Application date： Jul. 16, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】システムを停止した際にガス分離膜内の残存ガスを短時間でパージできるガス分離装置を提供する。【解決手段】ケーシング26,28の内部が、被分離ガスが導入され、特定のガスを選択的に分離可能な中空糸状ガス分離膜14の開放された両端部14a,14bのそれぞれを支持する第1および第2のフランジ18,16とケーシング26の内壁により画定される第1室21と、第1のフランジ16と、ケーシング26の内壁により画定され、分離された特定のガスが排出される第2室22と、第2のフランジ18とケーシング26の内壁により画定され、パージガスが導入される第3室23とから構成され、中空糸状ガス分離膜の開放された両端部14a,14bの各々を、第2室22および第3室23に臨ませて、各室は、他の室とは気密状態に保たれている。

Claim (excerpt)：

ケーシングに導入された被分離ガスから特定のガスを分離して排出するガス分離装置であって、前記ケーシングの内部が、前記被分離ガスが導入され、被分離ガスから前記特定のガスを選択的に分離可能な中空糸状ガス分離膜の開放された両端部のそれぞれを支持する第1および第2のフランジと前記ケーシングの内壁により画定される第1室と、前記第1のフランジと前記ケーシングの内壁により画定され、前記分離された特定のガスが排出される第2室と、前記第2のフランジと前記ケーシングの内壁により画定され、パージガスが導入される第3室とから構成されており、前記中空糸状ガス分離膜の開放された両端部の各々を、前記第2室および第3室に臨ませるとともに、前記各室は、他の室とは気密状態に保たれていることを特徴とするガス分離装置。

IPC (5)：

B01D 53/22 , B01D 63/02 , C01B 3/36 , C01B 3/56 , H01M 8/06

FI (5)：

B01D 53/22 , B01D 63/02 , C01B 3/36 , C01B 3/56 Z , H01M 8/06 G

F-Term (23)：

4D006GA41 , 4D006HA02 , 4D006JA22A , 4D006JA23A , 4D006JA25A , 4D006JA62A , 4D006MA01 , 4D006MA31 , 4D006MB04 , 4D006MB16 , 4D006MC02 , 4D006MC03 , 4D006PB66 , 4D006PC80 , 4G040EA02 , 4G040EA06 , 4G040EB33 , 4G040FA04 , 4G040FB04 , 4G040FC01 , 4G040FE01 , 5H027BA01 , 5H027BA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

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Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-294974 Applicant：宇部興産株式会社

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