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J-GLOBAL ID：200903062268130382

リモートプラズマによる表面処理方法

Inventor： 稲垣 訓宏
Applicant, Patent owner： 新技術事業団
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995129926
Publication number (International publication number)：1996323873
Application date： May. 29, 1995
Publication date： Dec. 10, 1996
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ中のラジカル種を積極的に利用して表面処理し、高特性、高品質の表面を得る。【構成】 減圧系内で、被処理表面をプラズマ領域から離した位置に置いて処理する。

Claim (excerpt)：

減圧系内で、被処理表面をプラズマ領域から離れた位置に配設して表面処理することを特徴とするリモートプラズマによる表面処理方法。

IPC (2)：

B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306

FI (2)：

B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306