Pat
J-GLOBAL ID：200903062283361196
真空成膜装置
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997155025
Publication number (International publication number)：1999006049
Application date： Jun. 12, 1997
Publication date： Jan. 12, 1999
Summary：
【要約】【課題】 真空容器内における蒸着材料の付着の問題を比較的簡単な作業を行うだけで解消でき、しかも、長時間、連続して正常に運転することができる真空成膜装置を提供する。【解決手段】 真空容器10と、真空容器10に取り付けられたプラズマ源としてのプラズマビーム発生器20と、真空容器10内の底部に配置された陽極としてのハース41とを有している。プラズマビーム発生器20が発生するプラズマビームをハース41に導き、蒸着材料200をイオン化し、ハース41の上方に配置されかつ電圧が印加された被処理物体としての基板上に蒸着材料200から成る膜を形成する真空成膜装置である。真空容器10の容器本体11aの側壁の内側に金属製の防着板71を配置し、防着板71の内側に金属製のメッシュ板72を着脱可能に配置した。
Claim (excerpt)：
真空容器内で蒸着材料を蒸気化し、蒸気化した蒸着材料を被処理物体表面に成膜させる真空成膜装置において、前記真空容器の側壁の内側に金属製の防着板を配置し、前記防着板の内側に金属製のメッシュ板を着脱可能に配置したことを特徴とする真空成膜装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
Show all
Return to Previous Page
