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J-GLOBAL ID：200903062299743064

低温フローのBPSGを形成するプラズマCVDプロセス

Inventor： マーク・ダグラス・ボウファード ,  ウィリアム・ジェームス・キング ,  チェリル・マーフィ・マーチン
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 合田 潔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994050073
Publication number (International publication number)：1994333858
Application date： Mar. 22, 1994
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 BPSG膜を形成する方法を提供する。【構成】 BPSG膜は、PECVD反応室において、非酸化雰囲気中、低温でフローし、粒子数が減少するようなP2O3/P2O5比率で形成される。この方法では、P2O3/P2O5比を制御することによってBPSG膜の壁面角度を調整することができる。

Claim (excerpt)：

ホウ素リンケイ酸ガラス膜を形成する方法であって、気体のボロン、リン、シリコン及び酸素を含有する反応物を反応室に供給するステップと、上記反応物の少なくとも1つを含むプラズマを形成するステップと、P2O3/P2O5比率が約0%乃至25%の範囲のホウ素リンケイ酸ガラス膜が得られるように上記反応物の圧力、温度及びフロー率を制御するステップと、を含む、方法。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平1-318235
  
• 特開平3-120825