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J-GLOBAL ID:200903062316572015

多孔体の改質処理方法およびその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西田 新
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995143105
Publication number (International publication number):1996337675
Application date: Jun. 09, 1995
Publication date: Dec. 24, 1996
Summary:
【要約】【目的】多孔体表面および内面の改質を容易に、しかも均一に行うことができる多孔体の改質処理方法およびその装置を提供する。【構成】電圧を印加するための電圧印加電極と接地電極を、その両電極間に、内部に複数の孔を有する多孔体を介在させた状態でチャンバ内に配設するとともに、大気圧以上としたチャンバ内に反応ガスを導入し、電圧印加電極に高周波/高電圧を印加してプラズマを発生させる方法である。また、装置は、大気圧以上としたチャンバと、反応ガス導入手段と、このチャンバ内に対向配置された電圧印加電極および接地電極と、この両電極間距離を調節するための調節手段が備えられ、電圧印加電極には高周波/高電圧が印加される。
Claim (excerpt):
電圧を印加するための電圧印加電極と接地電極を、その両電極間に、内部に複数の孔を有する多孔体を介在させた状態でチャンバ内に配設するとともに、そのチャンバ内に反応ガスを導入し、上記電圧印加電極に電圧を印加してプラズマを発生させることにより、上記多孔体を処理する方法において、上記チャンバ内を大気圧以上とし、上記電圧印加電極に高周波/高電圧を印加することにより、上記多孔体表面および各孔の内部空間でプラズマを発生させることを特徴とする多孔体の改質処理方法。
IPC (4):
C08J 9/36 ,  B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306 ,  B29K105:04
FI (3):
C08J 9/36 ,  B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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