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J-GLOBAL ID:200903062334706681
透明導電膜の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松井 光夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993219229
Publication number (International publication number):1995056131
Application date: Aug. 12, 1993
Publication date: Mar. 03, 1995
Summary:
【要約】【目的】 低抵抗で可視光透過率の高い透明導電膜を得る方法を提供する。【構成】 基板上に透明導電層をスパッタ法により成膜する際に、スパッタ法を、不活性ガス、水素および酸素を含む混合ガス雰囲気(スパッタ雰囲気)中で行い、このときの水素に対する酸素の流量比を0.4〜1.2とする。
Claim (excerpt):
プラスチック基板上に透明導電層を少なくとも有する透明導電膜の製造方法において、透明導電層をスパッタ法により設け、かつ該スパッタ法を、不活性ガス、水素および酸素を含む混合雰囲気中で行い、このときの水素に対する酸素の流量比を0.4〜1.2とすることを特徴とする方法。
IPC (3):
G02F 1/13 101
, C23C 14/34
, G02F 1/1343
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