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J-GLOBAL ID:200903062336956014

磁気記録媒体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993332981
Publication number (International publication number):1995192259
Application date: Dec. 27, 1993
Publication date: Jul. 28, 1995
Summary:
【要約】【目的】 安定な膜質を有する保護膜を得ることが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層を形成した後、平均粒子径1〜10μmなる粒子より構成されるターゲット材を用いてマグネトロンスパッタ法により保護膜を成膜する。【効果】 ターゲット材の平均粒子径が小さいと、局所的な分子配向が防止され、プラズマの不均一化や異常放電を抑制することができる。これにより、スチル特性およびシャトル特性に優れた安定した膜質の保護膜を成膜でき、業務用として対応できる品質の磁気記録媒体を提供することが可能となる。
Claim (excerpt):
非磁性支持体上に強磁性金属薄膜と保護膜とを形成する磁気記録媒体の製造方法において、前記保護膜を、平均粒子径1〜10μmなる粒子より構成されるターゲット材を用いてマグネトロンスパッタ法により成膜することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3):
G11B 5/84 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/85
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭62-231424
  • 特開平4-128369
  • 特開昭62-231424
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