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J-GLOBAL ID：200903062352658244

シス-4-t-ブチルシクロヘキサノールの製造法

Inventor： 江村 誠 ,  豊田 高明 ,  清藤 信夫 ,  野依 良治 ,  碇屋 隆雄 ,  大熊 毅
Applicant, Patent owner： 高砂香料工業株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996050310
Publication number (International publication number)：1997241194
Application date： Mar. 07, 1996
Publication date： Sep. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 香料原料として価値の高いシス体含量の多い4-t-ブチルシクロヘキサノールを、工業的に実施可能な程度に、経済的に安価に製造する方法を提供する。【解決手段】 4-t-ブチルシクロヘキサノンを、ルテニウム-ホスフィン錯体を触媒としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属を有する塩基およびアミンの存在下で水素化する。

Claim (excerpt)：

次の式(1)【化1】で表される4-t-ブチルシクロヘキサノンを、ルテニウム-ホスフィン錯体を触媒としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属を有する塩基およびアミンの存在下で水素化することを特徴とする次の式(2)【化2】で表されるシス-4-t-ブチルシクロヘキサノールの製造法。

IPC (5)：

C07C 35/08 ,  B01J 31/24 ,  C07C 29/145 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 9:00

FI (4)：

C07C 35/08 ,  B01J 31/24 ,  C07C 29/145 ,  C07B 61/00 300