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J-GLOBAL ID：200903062378386269
微小構造体およびその作製方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉浦 正知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994259447
Publication number (International publication number)：1996101320
Application date： Sep. 29, 1994
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：
【要約】【目的】 ほぼ平坦な表面を有し、材料選択の幅が広く、かつ界面のプロファイルが階段状の微小構造体を簡便な方法により単純なプロセスでしかも材料を有効利用しつつ作製する。【構成】 基板1の一主面に微小な溝1aを互いに近接して複数形成し、その主面の上に埋め込み用の膜2を液相エピタキシャル成長法などにより形成し、これらの溝1aを埋める。
Claim (excerpt)：
一主面に微小な凹凸が存在する基板の凹部がエピタキシャル成長法により形成された上記基板と同一または異なる物質により埋め込まれており、かつ上記物質の表面はほぼ平坦であることを特徴とする微小構造体。
IPC (2)：
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