Pat

J-GLOBAL ID：200903062383241902

モニタリング装置

Inventor： 中島 信顕 ,  佐藤 礼二
Applicant, Patent owner： 住友重機械工業株式会社
Agent (1)： 川合 誠 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992294065
Publication number (International publication number)：1994148156
Application date： Nov. 02, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】超臨界流体抽出や超臨界流体クロマトグラフをオンラインでモニタリングすることができるようにする。【構成】収容した製品に超臨界流体を接触させて、製品内の成分を超臨界流体に溶解させる槽が設けられ、該槽から取り出された超臨界流体が圧力調整弁21によって減圧され、気液二相流体となる。該気液二相流体は前処理槽に供給され、ほぼ大気圧状態で収容される。該前処理槽内において、サンプル液は脱気手段によって脱気され、レベルが一定にされる。したがって、前処理槽に供給された気液二相流体がサンプル液に直接接触しないようにし、サンプル液に気泡が発生するのを防止することができる。また、前記前処理槽には検出器が接続され、前処理槽からサンプル液を受け、該サンプル液内の成分を検出する。そして、検出が終了した後のサンプル液は前処理槽に戻される。

Claim (excerpt)：

(a)収容した製品に超臨界流体を接触させて、製品内の成分を超臨界流体に溶解させる槽と、(b)該槽から取り出した超臨界流体を減圧して気液二相流体とする圧力調整弁と、(c)該気液二相流体をほぼ大気圧状態で収容する前処理槽と、(d)該前処理槽内のサンプル液を脱気する脱気手段と、(e)前記前処理槽内のサンプル液のレベルを一定にする手段と、(f)前記前処理槽からサンプル液を受け、該サンプル液内の成分を検出する検出器と、(g)該検出器のサンプル液を前処理槽に戻す循環手段を有することを特徴とするモニタリング装置。

IPC (4)：

G01N 30/02 ,  B01D 11/00 ,  G01N 30/80 ,  G01N 30/84