光応答性材料及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人特許事務所サイクス (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001168797
Publication number (International publication number)：2002355562
Application date： Jun. 04, 2001
Publication date： Dec. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】実質的に酸素欠陥を有さないにもかかわらず、可視光線への応答性は有する新規な光応答性材料、その製造方法、及びその用途を提供。【解決手段】ルチル型酸化チタンであって、光源のピーク波長が520nmであり、半値幅が20nmである光の作用により活性を有する光応答性材料。光の作用により活性がNO除去活性である。窒素元素を含むルチル型酸化チタンであることができる。ルチル型酸化チタンを窒素プラズマで処理するか、またはアンモニア雰囲気中で加熱処理ことを含む光応答性材料の製造方法。

Claim (excerpt)：

ルチル型酸化チタンであって、光源のピーク波長が520nmであり、半値幅が20nmである光の作用により活性を有する光応答性材料。

IPC (14)：

B01J 35/02 , B01D 53/86 , B01D 53/94 , B01J 27/24 , B01J 37/08 , B01J 37/34 , C01B 3/04 , C01B 13/02 , C09D 1/00 , C09D 5/00 , C09D 5/14 , C09D 5/16 , C09D 7/12 , C09D201/00

FI (14)：

B01J 35/02 J , B01J 27/24 M , B01J 37/08 , B01J 37/34 , C01B 3/04 A , C01B 13/02 B , C09D 1/00 , C09D 5/00 Z , C09D 5/14 , C09D 5/16 , C09D 7/12 , C09D201/00 , B01D 53/36 J , B01D 53/36 102 D

F-Term (78)：

4D048AA06 , 4D048BA07X , 4D048BA41X , 4D048BA46X , 4D048BB01 , 4D048BB03 , 4D048EA01 , 4D048EA04 , 4G042BA08 , 4G042BB04 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA02A , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA07A , 4G069BA08A , 4G069BA38 , 4G069BA48A , 4G069BC75B , 4G069BD06A , 4G069BD06B , 4G069CA01 , 4G069CA13 , 4G069CC33 , 4G069CD10 , 4G069DA05 , 4G069EA01Y , 4G069EA08 , 4G069EC22X , 4G069EC22Y , 4G069EC27 , 4G069FA01 , 4G069FA02 , 4G069FA03 , 4G069FB14 , 4G069FB23 , 4G069FB29 , 4G069FB58 , 4G069FC06 , 4G069FC08 , 4J038AA011 , 4J038CD091 , 4J038CG001 , 4J038DA161 , 4J038DB001 , 4J038DD001 , 4J038DD121 , 4J038DD231 , 4J038DG001 , 4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038HA026 , 4J038HA156 , 4J038HA216 , 4J038HA286 , 4J038HA376 , 4J038HA416 , 4J038HA446 , 4J038HA466 , 4J038HA486 , 4J038HA491 , 4J038HA556 , 4J038KA02 , 4J038KA06 , 4J038KA07 , 4J038KA12 , 4J038KA20 , 4J038MA14 , 4J038NA02 , 4J038NA05 , 4J038NA18 , 4J038PC02 , 4J038PC03 , 4J038PC06 , 4J038PC07 , 4J038PC08 , 4J038PC10

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