欠陥検査方法及び欠陥検査装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001104153
Publication number (International publication number)：2002303586
Application date： Apr. 03, 2001
Publication date： Oct. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】ユーザの拘束時間を軽減し、最適なテスト条件の選択を可能にし、常に高感度な欠陥検査を実現できるようにした欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供することにある。【解決手段】光学系条件によって被検査対象物のコントラス、明るさ、見え方、欠陥の検出感度が変わり、最適なテスト条件を選択して検査を行う欠陥検査装置において、光学系条件を変えたときの評価値を定量的に並べて表示することにより、最適な光学条件を非熟練者での容易に選択できるようになる。また、一連のテスト検査の結果から評価項目の満足度の最も高いものを選択することにより、最適テスト条件を自動選択することが可能となる。

Claim (excerpt)：

予め設定された複数の光学系条件項目から構成される複数のテスト条件を変えながら、光または荷電粒子のビームを被検査対象基板に照射することによって被検査対象基板から発生する光、二次電子、反射電子、透過電子、吸収電子のいずれかを検出して画像信号に変換し、該変換された画像信号をA/D変換して得られたディジタル画像信号を基に前記被検査対象基板上での欠陥部を見付ける一連のテスト検査を行うことを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (8)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , G01B 21/30 , G01N 23/04 , G01N 23/06 , G01N 23/225 , G06T 1/00 305 , H01L 21/66

FI (8)：

G01N 21/956 A , G01B 11/30 A , G01B 21/30 , G01N 23/04 , G01N 23/06 , G01N 23/225 , G06T 1/00 305 A , H01L 21/66 J

F-Term (80)：

2F065AA49 , 2F065CC19 , 2F065DD06 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065GG04 , 2F065GG21 , 2F065HH12 , 2F065HH14 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL21 , 2F065MM03 , 2F065MM22 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065SS02 , 2F065SS13 , 2F069AA60 , 2F069BB15 , 2F069DD15 , 2F069GG07 , 2F069GG08 , 2F069JJ12 , 2F069JJ19 , 2F069MM23 , 2F069NN08 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA11 , 2G001BA15 , 2G001CA03 , 2G001GA06 , 2G001HA05 , 2G001HA13 , 2G001HA20 , 2G001JA13 , 2G001JA16 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051AC01 , 2G051BA10 , 2G051DA05 , 2G051EA11 , 2G051EC02 , 2G051FA01 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106BA05 , 4M106CA38 , 4M106CA41 , 4M106DA15 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DJ11 , 4M106DJ23 , 4M106DJ39 , 5B057AA03 , 5B057BA24 , 5B057BA29 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CC03 , 5B057CH01 , 5B057CH16 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC32 , 5B057DC36

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭62-011142
回路パターンの検査方法及び検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-340297 Applicant：株式会社日立製作所

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