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J-GLOBAL ID：200903062438467379

撮像装置及び露出制御装置

Inventor： 斎藤 恭大 ,  河原 英夫
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 渡部 敏彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992359217
Publication number (International publication number)：1994197269
Application date： Dec. 25, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】被写界深度を浅くして背景をぼかした映像を円滑に得ることができる撮像装置を提供することを目的とする。【構成】被写体からの光を集光するレンズ系20と、その光路上に設けられた露光量調整用の絞り羽根21と、その絞り羽根21を通った入射光を電気信号に変換するCCD22と、絞り羽根21の開放度を制御する絞り羽根制御手段とを備える。そして、前記レンズ系21とCCD22との間の光路上に入射光の光透過率を変化させるためのフィルタ17と、このフィルタ17の光透過率を制御するフィルタ制御回路18とを設ける。

Claim (excerpt)：

被写体からの光を集光するレンズ系と、その光路上に設けられた露光量調整用の絞り羽根と、前記絞り羽根を通った入射光を電気信号に変換する光電変換手段と、前記絞り羽根の開放度を制御する絞り羽根制御手段とを備えた撮像装置において、前記レンズ系と光電変換部との間の光路上に設けられ、入射光の光透過率を変化させるためのフィルタと、前記フィルタの光透過率を制御するフィルタ制御手段とを設けたことを特徴とする撮像装置。